Fond de ten hidratant Enough Collagen SPF 15 , Nr21

Fondul de ten Enough Collagen Moisture SPF 15 creează o acoperire perfectă, uniformă și de lungă durată, uniformizează tenul, îi conferă strălucire și prospețime. Datorită colagenului hidrolizat din compoziție, produsul saturează pielea cu umiditate la nivel celular, crescându-i elasticitatea și fermitatea și întărește turgorul pielii.

Fondul de ten are o textură puternic pigmentată care se adaptează nuanței pielii, acoperă imperfecțiunile fără efect de mască, fără a accentua exfolierea, fără a bloca porii și fără a provoca un luciu gras.

Componente principale:

Acid hialuronic - saturează pielea cu umiditate și previne pierderea acesteia, netezește ridurile și vindecă rănile, îmbunătățește tenul, face pielea moale și elastică
Beta-glucan - are un puternic efect antibacterian și antimicrobian, accelerând procesul de restaurare și regenerare, ajută la întărirea capilarelor, netezește microrelieful feței și previne decolorarea și îmbătrânirea prematură a pielii.
Extract de Centella Asiatica - normalizează echilibrul hidrolipidic al pielii, accelerează regenerarea celulară, întărește capilarele și venele, îmbunătățește circulația sângelui, ceea ce crește semnificativ elasticitatea țesutului conjunctiv
Datorită ingredientelor sale benefice, este potrivit pentru toate tipurile de piele, inclusiv pentru cele foarte sensibile și grase.


Compoziție:  Apă, Ciclohexasiloxan, Ciclotetrasiloxan, Dioxid de titan, Trigliceridă caprilică/caprică, Glicerină, Butilenglicol, Cetil PEG/PPG 101 Dimeticonă, Sesquioleat de sorbitan, Crosspolimer de dimeticonă\vinil dimeticonă, Dimeticonă, Ozokerită, Clorură de sodiu, Stearalconiu Hector Zolit, Silicat de magneziu și aluminiu, Oxid galben de fier, Fenoxietanol, Oxid roșu de fier, Oxid negru de fier, Parfum, Trietoxicaprilil silan, Colagen solubil în apă 0,1%, Betaină, Betaglucan, Extract de frunze de Centella Asiatica, Hialuronat de sodiu.